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45纳米制程 编辑词条词条保护

词条创建者 匿名网友

是半导体制造制程的一个水平。自2007年后期,松下电器英特尔开始大量制造45纳米的芯片产品。

芯片制造厂商使用High-k材料来填充栅极,目的是为了减少漏电。至2007年,IBM和英特尔宣布他们采用了金属栅极解决方案。

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