半导体工艺
10µm– 1971年 6µm– 1974年 3µm– 1977年 1.5µm– 1982年 1µm– 1985年 800nm– 1989年 600nm– 1994年 350nm– 1995年 250nm– 1997年 180nm– 1999年 130nm– 2001年 90nm– 2004年 65nm– 2006年 45nm– 2008年 32nm– 2010年 22nm– 2012年 14nm– 2014年 10nm– 2017年 7nm – 2018年 5nm– 约20X 查论

国际半导体技术发展路线图（International Technology Roadmap for Semiconductors，简写 ITRS），是由世界上五个主要的半导体制造国家的相关协会所资助的组织，有许多半导体产业专家组成工作小组每年进行数次讨论，并提出一些报告与文档，以期集成电路与其应用的相关产业能更有成本效益的健全发展。

含此声明：路线图仅为技术评估而制作，并不考虑任何的个人产品或仪器的商业应用。

Half-shrink 主节点 半节点 250nm 220nm 180nm 150nm 130nm 110nm 90nm 80nm 65nm 55nm 45nm 40nm 32nm 28nm 22nm 20nm 14nm 16nm 10nm 11nm 另见
摩尔定律 半导体制程