纳米多孔薄膜的高分辨率光刻

匿名用户 2020年11月17日 pm8:48 阅读 5

金属有机骨架(MOF)是由有机分子和金属离子组成的分子海绵。KU鲁汶膜分离,吸附,催化和分离中心的Rob Ameloot教授说:“这些材料在高科技小型设备(如低功率处理器,电阻存储器,传感器和柔性电子产品)中有着广阔的前景。光谱学(cMACS)。“ MOF和微电子界都在努力将MOF集成到微芯片中,这需要两个关键的工程步骤:薄膜沉积和光刻图案化。”

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2016年,Ameloot教授团队开发了MOF薄膜的化学气相沉积法,该方法可与工业芯片制造兼容。现在,该团队通过实现具有纳米分辨率的MOF薄膜的直接光刻技术,迈出了进一步的一步。传统的光刻技术使用牺牲层,即所谓的光致抗蚀剂,将图案转移到所需的材料中。光致抗蚀剂的使用使工艺复杂化,并且可能引起高度多孔的MOF膜的污染。

“我们的目标是消除光刻胶的使用,并且仍然具有高质量的MOF图案。” 涂·鲁芬(KU Leuven)的博士后研究员,论文的**作者说。“我们的方法基于对MOF膜进行选择性X射线或电子束曝光,这会引起化学变化,从而可以通过普通溶剂将其去除。该过程完全避免了抗蚀剂层,从而显着简化了构图,同时保持了已构图的物理化学性质MOF完好无损,而且,我们可以图案化比以前更小的特征,并且我们的技术已经与现有的纳米制造工艺兼容,为证明这种方法的某些功能,我们制造了对有机蒸气有响应的光子传感器。我们是**个实现这些高度多孔材料的直接高分辨率光刻的公司。我们发现了一种在表面上构图MOF材料的令人兴奋的方法。现在,是时候将它们设计和实现到小型设备中了。”

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