物理气相沉积（英语：Physical vapor deposition，PVD）是一种工业制造上的工艺，是主要利用物理过程来沉积薄膜的技术，即真空镀膜（蒸镀），多用在钣金件、蚀刻件、挤压件、金属X成型（MIM）、粉末X成型（PIM）、机加件和焊接件等零件的工艺上。
和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。
主要的物理气相沉积的方法有：
热蒸镀 溅镀 脉冲激光沉积
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