EUV光刻促成剂获得德国未来奖

光电子技术发展的三位先驱者使得极紫外（EUV）光刻成为可能，并赢得了2020年德国未来奖（Deutscher Zukunftspreis）。

彼得·库尔兹来自蔡司，Trumpf公司的迈克尔Kosters博士，以及来自谢尔盖玉林弗劳恩霍夫应用光学和精密工程（IOF）收到了来自德国联邦总统弗兰克-瓦尔特·施泰因迈尔将在颁奖仪式在柏林11月25日。

尽管ASML现在已经向芯片制造商交付了近100台巨大且价格昂贵的EUV光刻系统，但该技术最初被证明存在巨大问题，并且花费了超过二十年的时间进行开发。

蔡司最先进的反射光学系统和通快的强大激光源对系统的运行至关重要，它们可用于产生和控制EUV光，当激光器以熔融锡滴流照射时产生EUV光。每个EUV系统的来源。

蔡司半导体制造技术（SMT）业务部门负责人Markus Weber回应该奖项的消息时说，该奖项表彰了巨大的劳动密集型开发工作和技术转让工作，但是EUV现在主导了全球光刻市场。 ，只有ASML能够提供该技术。

Weber补充说：“蔡司代表着卓越的光学性能和精确度。” “这一直是芯片生产的关键因素。作为一项突破性创新，EUV技术将继续推动商业和社会数字化的重大进步。我们很荣幸能与我们的战略合作伙伴ASML，Trumpf和Fraunhofer一起为此做出贡献。”

Trumpf的首席技术官Peter Leibinger密切参与了与ASML的合作，事实证明这对激光公司近年来的销售产生了重大推动作用。

“通过结合发明，对技术，毅力和良好的团队合作的理解，库尔兹、科斯特斯和榆林是如何通过强大的合作伙伴关系将未来技术发展为工业成熟的完美典范。

“该奖项再次向我们表明，强大的行业和出色的研究环境在应对本世纪的挑战中发挥着至关重要的作用。巨大的EUV光刻项目还在年创造了就业机会，同时还确保了欧洲在生产最先进的微芯片方面发挥先锋作用。”

作为Oberkochen蔡司SMT的EUV High-NA（高数值孔径）细分市场的副总裁，Kürz负责开发下一代EUV光学器件，它将使用更先进的光学设计来帮助进一步缩小复杂的特征尺寸，用ASML的设备进行图案化。

Kösters是Ditzingen公司负责特朗普半导体半导体制造激光器的专门小组的负责人，被公认为是产生EUV光的高性能激光器的共同开发者。

Fraunhofer IOF的高级首席科学家Yulin负责EUV光学器件的开发，该研究所在开发大型和超平坦蔡司组件所需的精密涂层方面起着特别重要的作用。